[发明专利]一种存储器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 202010967833.0 申请日: 2020-09-15
公开(公告)号: CN112054035A 公开(公告)日: 2020-12-08
发明(设计)人: 杨美音;崔岩;罗军;许静 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/22
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 柳虹
地址: 100029 北京市朝阳*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供的一种存储器件及其制造方法,包括:第一器件结构和第二器件结构,第一器件结构包括依次层叠的第一底电极、本征材料层、第一掺杂材料层、第二掺杂材料层和第一顶电极,第二器件结构包括依次层叠的第二底电极、隧道结和第二顶电极,第一底电极与第二底电极连接,第一顶电极和第二顶电极连接。这样,第一器件结构感光后产生光电流信号,光电流流入第二器件结构的隧道结中,隧道结中预先存储有图像识别模型的训练结果,从而能够进行图像的识别。由于第一器件结构为自驱动功能的PN结器件,无需额外的电流,能耗低,局限性较小,且第一器件结构的光吸收范围较宽、响应速度较快,进一步提高了存储器件的适用范围。
搜索关键词: 一种 存储 器件 及其 制造 方法
【主权项】:
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