[发明专利]一种流体线射流抛光装置及其应用方法有效
申请号: | 202010989012.7 | 申请日: | 2020-09-18 |
公开(公告)号: | CN112059924B | 公开(公告)日: | 2022-01-11 |
发明(设计)人: | 王春锦;张志辉;何丽婷 | 申请(专利权)人: | 香港理工大学 |
主分类号: | B24C3/32 | 分类号: | B24C3/32;B24C7/00;B24C9/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人: | 郭帅 |
地址: | 中国香港*** | 国省代码: | 香港;81 |
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摘要: | 本发明涉及抛光领域,公开了一种流体线射流抛光装置及其应用方法,所述线射流喷嘴包括连接部、入口、壳体、汇集腔以及出口;其中,所述壳体设置在所述线射流喷嘴外部,所述汇集腔设置在所述线射流喷嘴内部,所述汇集腔的上部设有所述入口,所述入口处设有与所述高压抛光液供给系统相连的连接部,所述汇集腔的下部设有所述出口;所述出口的长度与宽度比值为2‑50;所述高压抛光液供给系统输出的高压抛光液通过所述入口,经所述汇集腔在所述出口喷射出高压高速的流体线性射流,产生比传统单射流抛光能量更高、比线性射流阵列抛光作用效果更加稳定的排线式射流。本发明设计合理、经济有效,在超精密抛光领域具有重要的推广应用价值。 | ||
搜索关键词: | 一种 流体 射流 抛光 装置 及其 应用 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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