[发明专利]一种芯片加工用蒸镀设备在审
申请号: | 202010992349.3 | 申请日: | 2020-09-21 |
公开(公告)号: | CN112063973A | 公开(公告)日: | 2020-12-11 |
发明(设计)人: | 陈圆圆 | 申请(专利权)人: | 陈圆圆 |
主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/16;C23C14/56;H01L21/02 |
代理公司: | 合肥兆信知识产权代理事务所(普通合伙) 34161 | 代理人: | 陈龙勇 |
地址: | 231100 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种芯片加工用蒸镀设备,包括真空室、第一中转室、密封法兰和凹槽,所述真空室底部固定有隔热垫,且隔热垫顶部固定有石墨坩埚,所述石墨坩埚外侧安装有电磁感应加热器,且石墨坩埚内侧放置有石英坩埚,所述石英坩埚顶部与石墨坩埚顶部放置有坩埚盖,且坩埚盖表面开设有多个导气孔,所述坩埚盖后侧开设有进料孔。该芯片加工用蒸镀设备,设置有导气孔和晶片座,电磁感应加热器加热石墨坩埚,石墨坩埚加热石英坩埚,使石英坩埚内的金属蒸发形成金属蒸汽,金属蒸汽经过多个导气孔上升,同时驱动电机带动晶片座以及晶片座下方固定的晶片转动,使金属蒸汽均匀的接触并镀在晶片下表面,使蒸镀更加均匀,提高了成品质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 芯片 工用 设备 | ||
【主权项】:
暂无信息
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