[发明专利]半导体装置在审

专利信息
申请号: 202011058876.3 申请日: 2020-09-30
公开(公告)号: CN113345482A 公开(公告)日: 2021-09-03
发明(设计)人: 金镇浩;成象铉;吴星来 申请(专利权)人: 爱思开海力士有限公司
主分类号: G11C5/02 分类号: G11C5/02;G11C5/06;H01L27/11529;H01L27/11556;H01L27/11573;H01L27/11582
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 刘久亮;黄纶伟
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 公开了一种具有三维(3D)结构的半导体装置。该半导体装置包括:第一基板层,其包括逻辑电路;以及多个第二基板层,其层叠在第一基板层上,多个第二基板层包括存储器单元阵列。第二基板层中的每一个包括传送电路,其联接到存储器单元阵列的行线,该传送电路设置在第二基板层上并且选择性地联接到全局行线。
搜索关键词: 半导体 装置
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于爱思开海力士有限公司,未经爱思开海力士有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011058876.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top