[发明专利]集成电路封装及其形成方法在审

专利信息
申请号: 202011109999.5 申请日: 2020-10-16
公开(公告)号: CN112687666A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 余振华;王垂堂;张丰愿;陈颉彦;张维麟 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L25/065 分类号: H01L25/065;H01L21/98
代理公司: 南京正联知识产权代理有限公司 32243 代理人: 顾伯兴
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 在一实施例中,一种集成电路封装包括:处理器晶粒,包括电路区块,电路区块包括具有第一技术节点的有源装置;电源闸控晶粒,包括具有第二技术节点的功率半导体装置,第二技术节点大于第一技术节点;以及第一重布线结构,包括第一金属化图案,第一金属化图案包括电力供应源线及电力供应接地线,其中电路区块的第一子集经由功率半导体装置电性耦合至电力供应源线及电力供应接地线,且电路区块的第二子集永久地电性耦合至电力供应源线及电力供应接地线。
搜索关键词: 集成电路 封装 及其 形成 方法
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于台湾积体电路制造股份有限公司,未经台湾积体电路制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202011109999.5/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top