[发明专利]气体放电光源中的气体混合物控制在审
| 申请号： | 202011111824.8 | 申请日： | 2016-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN112234414A | 公开（公告）日： | 2021-01-15 |
| 发明（设计）人： | R·阿拉瓦特;T·亚加瓦尔 | 申请（专利权）人： | 西默有限公司 |
| 主分类号： | H01S3/036 | 分类号： | H01S3/036;H01S3/097;H01S3/00;H01S3/0971;H01S3/10;H01S3/104;H01S3/225;H01S3/23 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 范有余 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本公开涉及气体放电光源中的气体混合物控制。气体放电光源包括气体放电系统，其包括一个或多个气体放电室。气体放电系统中的每个气体放电室填充有相应的气体混合物。对于每个气体放电室，通过激活其相关联的能量源来将脉冲能量供应给相应的气体混合物，从而从气体放电室产生脉冲放大的光束。确定气体放电系统的一个或多个属性。基于确定的气体放电系统的一个或多个属性，从多个可能的方案中选择气体维护方案。选择的气体维护方案被应用于气体放电系统。气体维护方案包括与将一种或多种补充气体混合物添加到气体放电系统的气体放电室有关的一个或多个参数。 | ||
| 搜索关键词： | 气体 放电 光源 中的 混合物 控制 | ||
【主权项】：
暂无信息
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