[发明专利]集成电路装置在审

专利信息
申请号: 202011111931.0 申请日: 2020-10-16
公开(公告)号: CN112687687A 公开(公告)日: 2021-04-20
发明(设计)人: 吴旭升;刘昌淼;尚慧玲 申请(专利权)人: 台湾积体电路制造股份有限公司
主分类号: H01L27/088 分类号: H01L27/088;H01L21/8234
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 李琛;黄艳
地址: 中国台*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 提供集成电路装置及其形成方法。在一些实施例中,集成电路装置包含:位于基板上方的第一多栅极主动区域、位于基板上方的第二多栅极主动区域、位于第一多栅极主动区域上方的第一栅极结构、位于第二多栅极主动区域上方的第二栅极结构、以及设置在介于第一栅极结构以及第二栅极结构之间的介电部件。介电部件包含与第一栅极结构以及第二栅极结构接触的无氧层、位于无氧层上方的氧化硅层、以及设置在介于无氧层以及氧化硅层之间的过渡层。过渡层的氧含量小于氧化硅层的氧含量。
搜索关键词: 集成电路 装置
【主权项】:
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