[发明专利]堆叠结构及其制造方法在审
| 申请号： | 202011118468.2 | 申请日： | 2020-10-19 |
| 公开（公告）号： | CN112744780A | 公开（公告）日： | 2021-05-04 |
| 发明（设计）人： | 叶婕安;郭泰宏 | 申请（专利权）人： | 日月光半导体制造股份有限公司 |
| 主分类号： | B81B7/04 | 分类号： | B81B7/04;B81C1/00 |
| 代理公司： | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人： | 蕭輔寬 |
| 地址： | 中国台湾高雄市楠梓*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种堆叠结构包含聚合物层和金属层。所述金属层安置在所述聚合物层上。所述聚合物层的表面上的毛刺长度为约0.8μm到约150μm，且所述金属层的表面上的毛刺长度为约0.8μm到约7μm。 | ||
| 搜索关键词： | 堆叠 结构 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
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