[发明专利]连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线有效
| 申请号： | 202011139493.9 | 申请日： | 2020-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN112251728B | 公开（公告）日： | 2023-01-03 |
| 发明（设计）人： | 朱汪根;张见平;许波;胡松;吴俊保;冯治国 | 申请（专利权）人： | 凯盛信息显示材料（洛阳）有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/50;C23C14/56 |
| 代理公司： | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人： | 朱世新 |
| 地址： | 471000 河*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种连续真空磁控溅射镀膜装置及镀膜生产线，包括交替镀膜单元和变速转动单元，所述正极接电环板和负极接电环板间活动设置有相对的溅射靶一和溅射靶二，所述从转齿轮一和从转齿轮二的轮齿互补，所述驱动转杆上固定连接有若干大小不同的变速转轮，所述调节杆两侧开设有空槽，所述空槽内部固定设置有调节机构，本发明在使用中，通过正极接电环板和负极接电环板的设置，实现对带镀膜件的两侧进行交替镀膜并中和靶面上积累的阳离子，并通过多个大小不同的变速转轮、多个主转齿轮二和调节机构的设置，使得带镀膜件两侧的镀膜厚度不同，满足不同的工艺要求，扩大装置的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 连续 真空 磁控溅射 镀膜 装置 生产线 | ||
【主权项】：
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