[发明专利]一种曝光机在审

专利信息
申请号: 202011145548.7 申请日: 2020-10-23
公开(公告)号: CN112114500A 公开(公告)日: 2020-12-22
发明(设计)人: 周超;陈国军;吴景舟;马迪 申请(专利权)人: 江苏迪盛智能科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 张乐乐
地址: 215000 江苏省苏州市吴中*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明公开一种曝光机,所述基架上设有物体放置部,所述物体放置部和安装基面呈角度设置;夹具,其包括第一夹具和/或第二夹具,所述第一夹具靠近所述安装基面设置,所述第二夹具远离所述安装基面设置,所述第一夹具和所述第二夹具形成所述物体放置部;曝光光源件,其设于所述基架上,为所述物体放置部提供曝光光源。此结构的一种曝光机,通过物体放置部和安装基面呈角度设置,且基架上的其他部件如夹具等需要与物体放置部相配合,而减小了曝光机投影至安装基面的占用空间,以便于其他相关装置的放置。
搜索关键词: 一种 曝光
【主权项】:
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