[发明专利]一种静电卡盘固定结构在审
| 申请号： | 202011173116.7 | 申请日： | 2020-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN114496691A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 姜东勋;周娜;王佳;李琳;李俊杰 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙) 11386 | 代理人： | 姚东华 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种静电卡盘固定结构，涉及半导体制造技术领域，用于解决聚焦环可能会发生物理性偏移的问题。该静电卡盘固定结构由聚焦环和基底组成；所述基底工作侧上设置有第一连接部；所述聚焦环的环平面上设置第二连接部；所述聚焦环包覆静电卡盘的边缘；所述基底和所述聚焦环通过所述第一连接部与所述第二连接部卡合连接。本发明能够防止聚焦环在长时间工艺流片中发生物理性偏移，进而保证刻蚀后不会发生图形漂移，从而提高蚀刻过程中晶圆的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 静电 卡盘 固定 结构 | ||
【主权项】：
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