[发明专利]一种稳定同位素氘标记的达氟沙星及其合成方法有效
| 申请号： | 202011175187.0 | 申请日： | 2020-10-28 |
| 公开（公告）号： | CN112881542B | 公开（公告）日： | 2022-11-18 |
| 发明（设计）人： | 郭会;朱倩;陈武炼 | 申请（专利权）人： | 上海安谱实验科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N30/02 | 分类号： | G01N30/02;G01N30/72;G01N24/08 |
| 代理公司： | 上海科律专利代理事务所(特殊普通合伙) 31290 | 代理人： | 金碎平 |
| 地址： | 201609 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种稳定同位素氘标记的达氟沙星及其合成方法，该合成方法包括以下步骤：S1：以氘代碘甲烷和(1S，4S)‑2‑BOC‑2，5‑二氮双环[2.2.1]庚烷反应引入稳定同位素氘标记的甲基；S2：脱去BOC保护基团；S3：和1‑环丙基‑6，7‑二氟‑1，4‑二氢‑4‑氧喹啉‑3‑甲酸反应，制得稳定同位素氘标记的达氟沙星。本发明的稳定同位素氘标记的达氟沙星及其合成方法，原料价廉易得，反应条件温和，路线简短，稳定同位素氘不会脱落，产品容易分离提纯，产率高，化学纯度与稳定同位素丰度均达到99％以上，具有良好的经济性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 稳定 同位素 标记 达氟沙星 及其 合成 方法 | ||
【主权项】：
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