[发明专利]蒸镀坩埚有效
| 申请号： | 202011181339.8 | 申请日： | 2020-10-29 |
| 公开（公告）号： | CN112359324B | 公开（公告）日： | 2023-02-28 |
| 发明（设计）人： | 徐天宇;黄秦霏;肖昂;刘洋;郭雄飞;徐豹;朱伍权;付佳佳;孟德芬;易平安;赵希瑾;贾克飞 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种蒸镀坩埚，涉及蒸镀设备技术领域，能够降低喷嘴喷出蒸气的速率波动，并降低镀膜材料在喷嘴内侧附着并持续生长的可能。所述蒸镀坩埚包括：坩埚本体，坩埚本体包括底壁和环绕底壁设置的侧壁，底壁和侧壁围成具有开口的容纳腔；侧壁靠近容纳腔的表面为第一表面，第一表面包括与底壁平行的支撑面；网板组件，网板组件包括至少一块具有网孔的网板，网板组件抵接于支撑面；喷嘴，喷嘴安装于容纳腔的开口处，且喷嘴具有喷气孔。本发明的蒸镀坩埚用于蒸镀工艺。 | ||
| 搜索关键词： | 坩埚 | ||
【主权项】：
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