[发明专利]光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法有效
申请号: | 202011185018.5 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112099310B | 公开(公告)日: | 2021-02-12 |
发明(设计)人: | 魏来;罗招龙;李可玉;朱安康;林建佑 | 申请(专利权)人: | 南京晶驱集成电路有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G03F1/84;G03F7/20 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 曹廷廷 |
地址: | 210046 江苏省南京市栖霞区迈*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种光强阈值的获取方法以及辅助图形显影情况的检测方法,其中所述光强阈值的获取方法包括:在测试光罩上设置测试图形组,所述测试图形包括主图形以及辅助图形,所述测试图形组中的测试图形内的主图形宽度逐渐增大或者减小;利用所述测试光罩进行晶圆的光刻;筛选出辅助图形被显影的测试图形和与其相邻的辅助图形未被显影的测试图形;对筛选出的辅助图形被显影的测试图形和辅助图形未被显影的测试图形进行模拟,以获取两个测试图形内的辅助图形处的最大光强值;将所述辅助图形未被显影的所述测试图形内的辅助图形处的最大光强值设置为光强阈值。将得到的光强阈值设置为OPC模型的阈值,能够提升对辅助图形显影情况检测的准确性。 | ||
搜索关键词: | 阈值 获取 方法 以及 辅助 图形 显影 情况 检测 | ||
【主权项】:
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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