[发明专利]光学邻近矫正方法及其系统、掩膜版、设备及存储介质

摘要

一种光学邻近矫正方法及其系统、掩膜版、设备及存储介质，所述光学邻近矫正方法包括：提供原始图形；获取所述原始图形中的刻蚀窗口；获取所述刻蚀窗口边界内侧的膜层，作为内侧膜层，以及获取所述刻蚀窗口边界外侧的膜层，作为外侧膜层；判断所述内侧膜层的材料和外侧膜层的材料是否相同；当所述内侧膜层的材料和外侧膜层的材料不同时，将所述内侧膜层和外侧膜层的边界标记为待处理边界；沿着垂直于所述待处理边界且由所述内侧膜层指向外侧膜层的方向，对所述待处理边界进行扩展，获得图形。本发明实施例有利于增大光刻和刻蚀工艺的窗口，降低出现栅栏缺陷的几率。