[发明专利]发光装置、光学装置以及信息处理装置在审
| 申请号： | 202011202712.3 | 申请日： | 2020-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN113314943A | 公开（公告）日： | 2021-08-27 |
| 发明（设计）人： | 井口大介 | 申请（专利权）人： | 富士胶片商业创新有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/024 | 分类号： | H01S5/024;H01S5/042;H01S5/42;G01B11/24;G01S17/48;G06K9/00 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 杨贝贝;臧建明 |
| 地址： | 日本东京*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种发光装置、光学装置以及信息处理装置，发光装置具有：导热率为10W/m·K以上的绝缘性的基材；发光元件，设在所述基材的表面侧；第一背面配线，设在所述基材的背面侧，连接于所述发光元件的阴极电极与阳极电极的其中一者；第二背面配线，设在所述基材的背面侧，连接于所述阴极电极与所述阳极电极的另一者；以及基准电位配线，设在所述基材的背面侧，连接于外部的基准电位。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 装置 光学 以及 信息处理 | ||
【主权项】：
暂无信息
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