[发明专利]抗蚀剂组成物及图案形成方法在审
| 申请号： | 202011216447.4 | 申请日： | 2020-11-04 |
| 公开（公告）号： | CN112782934A | 公开（公告）日： | 2021-05-11 |
| 发明（设计）人： | 阿达铁平;山下信也;大桥正树;藤原敬之 | 申请（专利权）人： | 信越化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 刘新宇;李茂家 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及抗蚀剂组成物及图案形成方法。本发明的课题为提供在以ArF准分子激光等高能射线作为光源的光学光刻中，展现特别良好的掩膜尺寸依存性(掩膜误差系数：MEF)、LWR、尺寸均匀性(CDU)的抗蚀剂组成物，以及提供使用该抗蚀剂组成物的图案形成方法。该课题的解决手段为一种抗蚀剂组成物，其特征为含有：(A)含有具有酸不稳定基团的重复单元，且不含具有芳香族取代基的重复单元的树脂、(B)通式(B‑1)表示的光酸产生剂、及(C)溶剂。 |
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| 搜索关键词： | 抗蚀剂 组成 图案 形成 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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