[发明专利]光电探测基板及其制备方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 202011256874.5 申请日: 2020-11-11
公开(公告)号: CN112382682A 公开(公告)日: 2021-02-19
发明(设计)人: 贾倩;林鸿辉;王英涛 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L31/0352 分类号: H01L31/0352;H01L31/0288;H01L31/105;H01L31/20;H01L27/146;G06K9/00
代理公司: 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 代理人: 解婷婷;曲鹏
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本文公开了一种光电探测基板及其制备方法、显示装置。光电探测基板包括:衬底基板和设置于衬底基板上的光电二极管,光电二极管包括光电转换层,光电转换层包括第一半导体层和第二半导体层以及设置于第一半导体层和第二半导体层之间的本征层,第二半导体层位于第一半导体层远离衬底基板的一侧,本征层邻近第二半导体层一侧的带隙大于本征层邻近第一半导体层一侧的带隙。本文通过将本征层邻近第二半导体层一侧的带隙设置为大于本征层邻近第一半导体层一侧的带隙,本征层靠近第二半导体层的一侧的宽带隙能够减少对指纹反射光的吸收,本征层靠近第一半导体层的一侧的窄带隙能够增加对指纹反射光的吸收,提升了光电探测基板的检测灵敏度。
搜索关键词: 光电 探测 及其 制备 方法 显示装置
【主权项】:
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