[发明专利]基板薄膜缺陷检验方法及装置有效
申请号: | 202011268167.8 | 申请日: | 2020-11-13 |
公开(公告)号: | CN112327524B | 公开(公告)日: | 2023-02-28 |
发明(设计)人: | 曹志华 | 申请(专利权)人: | TCL华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 高杨丽 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 一种基板薄膜缺陷检验方法及装置,所述方法包括:依据源自基板的数个像素的标准反光数据、实测反光数据、标准透光数据及实测透光数据,逐一比对所述像素是否有缺陷,若有缺陷,判断条件是否符合所述实测反光数据减去所述标准反光数据的差值不小于阈值且所述实测透光数据与所述标准透光数据的差值的绝对值小于所述阈值且所述像素不在黑矩阵区范围内,若判断为是,记录为达标状态,若判断为否,产生送修命令。从而,可提升基板薄膜缺陷检验量能。 | ||
搜索关键词: | 薄膜 缺陷 检验 方法 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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