[发明专利]一种液态源存储设备

摘要

本发明公开了一种液态源存储设备，应用于原子层沉积设备中，包括：存储罐体和压力检测装置，压力调节管的一端连接所述存储罐体，另一端连接尾气处理装置，流量阀设置于所述压力调节管上，所述流量阀根据所述气体压强对应的流量调节信息进行流量调节。本技术方案通过使用流量阀对于存储罐体中的气态前驱体材料的压强进行有效控制，使得存储罐体内中的气态前驱体材料的压强保持恒稳状态，进而使进入反应腔室内的单位前驱体材料量保持稳定，保证薄膜在生长制备过程中的厚度均匀相同；进一步的，该种液态源存储设备的设置还能够增大存储罐体内部可用液位的范围，进而减少了前驱体材料的填料次数。