[发明专利]直接曝光装置和基板的曝光方法在审
| 申请号： | 202011296878.6 | 申请日： | 2020-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN112859532A | 公开（公告）日： | 2021-05-28 |
| 发明（设计）人： | 绿川悟 | 申请（专利权）人： | 株式会社ORC制作所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 崔成哲;黄纶伟 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种直接曝光装置和基板的曝光方法。能够良好地保持曝光区域的平面度，即使是焦点深度浅的曝光光学系统，也能够对可进行高分辨率的图案曝光的基板的两个面同时进行曝光。直接曝光装置具有：一对曝光单元，它们隔着基板对置配置；以及一对吸附部，它们在各曝光单元的曝光区域中吸附所述基板的与所述曝光区域相反的面。 | ||
| 搜索关键词： | 直接 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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