[发明专利]一种研磨结构和研磨装置在审
申请号: | 202011300630.2 | 申请日: | 2020-11-19 |
公开(公告)号: | CN112536711A | 公开(公告)日: | 2021-03-23 |
发明(设计)人: | 陈光林 | 申请(专利权)人: | 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司 |
主分类号: | B24B37/10 | 分类号: | B24B37/10;B24B37/16;B24B45/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 胡影;李红标 |
地址: | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种研磨结构和研磨装置,属于研磨技术领域,研磨结构包括:基座;研磨盘,所述研磨盘上设有沟槽,所述研磨盘可拆卸地设在所述基座上。在本发明的研磨结构中,将研磨盘设计成可拆卸式,便于进行清洗,研磨盘可拆卸替换,避免因局部损伤导致整个研磨结构更换的问题,可有效提升研磨盘利用率;通过沟槽可以排除砂浆及碎屑,在使用过程中,可以将研磨盘从所述基座上拆卸下来,便于清洗沟槽中残留的砂浆及碎屑,防止出现砂浆及碎屑淤积,延长研磨盘寿命,使得加工过程中的砂浆流转均匀,提高硅片表面的平坦度。 | ||
搜索关键词: | 一种 研磨 结构 装置 | ||
【主权项】:
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