[发明专利]曝光装置以及物品制造方法在审
| 申请号： | 202011309657.8 | 申请日： | 2020-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN112835267A | 公开（公告）日： | 2021-05-25 |
| 发明（设计）人： | 志村真乡 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人： | 程晨 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本公开涉及曝光装置以及物品制造方法。提供具有有利于减轻光学系统的振动的构造的曝光装置。对基板进行曝光的曝光装置具有：投影光学系统，将原版的图案投影到所述基板；腔，收容所述投影光学系统；遮板，在曝光中关闭为了搬送基板而设置于所述腔的开口部；以及调整部，调整利用所述遮板的来自所述腔的外部的声音的衰减效果。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 以及 物品 制造 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于佳能株式会社，未经佳能株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011309657.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：用于选择发动机部件的系统和方法
- 下一篇：密封结构及其形成方法
