[发明专利]一种TC-SAW滤波器制造方法在审

专利信息
申请号: 202011320101.9 申请日: 2020-11-23
公开(公告)号: CN112448687A 公开(公告)日: 2021-03-05
发明(设计)人: 桂华青;张江浩 申请(专利权)人: 广东广纳芯科技有限公司
主分类号: H03H3/10 分类号: H03H3/10;H03H9/02
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 杨洁
地址: 510700 广东省广州*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种TC‑SAW制造方法,包括:基板预处理、正面镀金属膜、背面镀金属膜、涂光刻胶、曝光、显影、沉积IDT、剥离光刻胶、沉积第一介质层、第一介质层减薄、沉积第二介质层、第二介质层减薄、探针测量、刻蚀背面金属膜等步骤。根据本发明的方法可减少工艺流程,提高良率,并可使得IDT电极宽度均匀、形貌更好,器件也可以得到更好的保护。
搜索关键词: 一种 tc saw 滤波器 制造 方法
【主权项】:
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