[发明专利]评价装置、评价方法、存储介质以及计算机装置在审
| 申请号： | 202011345264.2 | 申请日： | 2020-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN112964720A | 公开（公告）日： | 2021-06-15 |
| 发明（设计）人： | 后藤隆之;曾根拓郎 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | G01N21/88 | 分类号： | G01N21/88;G06T7/00 |
| 代理公司： | 上海华诚知识产权代理有限公司 31300 | 代理人： | 肖华 |
| 地址： | 日本东京都大*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明旨在提供可以抑制作为测量对象的立体物的测量面形状的影响，以高精度测量立体物体的表面品质的评价装置、评价方法、存储介质以及计算机装置。评价装置(200)具备照明装(202)，用于向测量对象物(S)的表面照射光；摄像装置(203)，用于取得所述测量对象物(S)的表面的图像；以及，图像评价部(42)，用于将所取得的图像之中的规定区域作为评价区域，评价所述测量对象物的品质，所述图像评价部设定的所述评价区域位于所述图像之中，受到所述照明装置照射的光所照亮的所述测量对象物表面上的区域，即照明区域的内侧。 | ||
| 搜索关键词： | 评价 装置 方法 存储 介质 以及 计算机 | ||
【主权项】：
暂无信息
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