[发明专利]一种助熔剂倒提拉晶体生长的方法在审

专利信息
申请号: 202011354513.4 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN112410869A 公开(公告)日: 2021-02-26
发明(设计)人: 王坤鹏;张建秀;刘泳;任衍彪;李凤丽;徐本燕;朱雨凤 申请(专利权)人: 枣庄学院
主分类号: C30B13/02 分类号: C30B13/02;C30B29/14;C30B29/30
代理公司: 枣庄小度智慧知识产权代理事务所(普通合伙) 37282 代理人: 郑素娟
地址: 277100 *** 国省代码: 山东;37
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摘要: 本发明公开了一种助熔剂倒提拉晶体生长的方法。制备含有助熔剂的多晶料棒;在光学浮区炉中,以高于正常生长速度约50%的速度,快速进行预生长;快速预生长即将结束时,即料棒头部仅剩约0.5cm时,在温度和转速不变的情况下,停止熔区移动约1分钟;将得到的预生长多晶料棒作为熔体部分,将剩余的料棒头作为籽晶,开始反向移动熔区,熔区移动的速率降为0.5mm/min,即采用光学浮区炉实现了TSSG顶部籽晶法生长的效果,本专利称之为助熔剂倒提拉法;在所述的两个完全相反的生长过程中,始终保持固液界面平缓连接,全程不中断,直至生长过程结束。本方法制备的单晶具有工艺简单,周期短和稳定性好的特点,所生长的晶体缺陷浓度低、光学质量高。
搜索关键词: 一种 熔剂 倒提拉 晶体生长 方法
【主权项】:
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