[发明专利]基于共路并行荧光辐射差分的超分辨显微成像方法和装置有效
| 申请号： | 202011357705.0 | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN112649405B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 匡翠方;张智敏;黄宇然;刘少聪;刘旭 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64;G01J3/44;G02B21/00 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人： | 刘静 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于共路并行荧光辐射差分的超分辨显微成像方法和装置，本方法利用液晶空间光调制器对荧光辐射差分超分辨显微成像中的激发光进行调制，将空间光调制器两部分分别加载为0‑2π涡旋相位调制和闪耀光栅，使得共路的激发光在样品面同时形成有一定距离的一个实心光斑和一个空心光斑，进行并行扫描，从而保证成像速度相较普通荧光辐射差分超分辨显微成像提高一倍的同时两激发光因共路而不易受到噪声、漂移等干扰的影响。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 并行 荧光 辐射 分辨 显微 成像 方法 装置 | ||
【主权项】：
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