[发明专利]对用于IR光谱分析的光学表面的损伤的确定在审

专利信息
申请号: 202011363067.3 申请日: 2020-11-27
公开(公告)号: CN112858210A 公开(公告)日: 2021-05-28
发明(设计)人: 奥托·谢贝尔霍夫;罗曼·贝内斯 申请(专利权)人: 安东帕有限责任公司
主分类号: G01N21/3563 分类号: G01N21/3563
代理公司: 成都超凡明远知识产权代理有限公司 51258 代理人: 王晖;曹桓
地址: 奥地利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供了一种用于IR光谱分析并且用于对在IR光谱分析期间暴露于测量辐射(9)的表面(13、15)的损伤进行确定的装置(1),其中该装置包括:用于产生测量辐射(9)的辐射源(7);用于接纳样品(16)的样品容器(21),其中该样品容器至少部分地由表面(13、15)限界;用于检测与所述样品(16)相互作用后的测量辐射(17)的检测器(19),其中该装置被配置成:对接纳在所述样品容器中的参考样品的IR参考光谱(29、31、IV)进行测量;评估参考光谱(29、31、IV),以确定损伤的指示标(S、S0、S1),其中评估包括对基于在预确定积分光谱范围(33)内的参考光谱(29、31、IV)的量进行积分,其中所述指示标是根据积分的值(S)来确定的。
搜索关键词: 用于 ir 光谱分析 光学 表面 损伤 确定
【主权项】:
暂无信息
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