[发明专利]掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版有效
| 申请号： | 202011364854.X | 申请日： | 2020-11-27 |
| 公开（公告）号： | CN112507584B | 公开（公告）日： | 2023-01-10 |
| 发明（设计）人： | 范柳彬;李文星;李金库;刘明星;甘帅燕 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/23 | 分类号： | G06F30/23;G06T17/20;C23C14/04;C23C14/24;G06F119/14 |
| 代理公司： | 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659 | 代理人： | 范坤坤 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种掩膜版框架的张网对抗力的确定方法、装置和掩膜版，该掩膜版框架的张网对抗力的确定方法包括根据掩膜版的参数建立掩膜版网面的仿真模型，并获取网面的仿真模型进行仿真得到的张网参数；根据张网参数和掩膜版框架的仿真模型得到框架的第一变形数据；在框架的仿真模型中，向框架施加载荷使框架产生变形；确定在框架变形的第二变形数据与第一变形数据匹配时施加于框架上的对抗力。本发明实施例提供的技术方案，由于施加到框架上的对抗力是经过仿真模拟得到的，具有较高的精度，因此可以很好地匹配预期设定的网面下垂量，极大地提高了张网精度，进而有利于提高产品的良率。 | ||
| 搜索关键词： | 掩膜版 框架 抗力 确定 方法 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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