[发明专利]一种电解质等离子抛光设备控制系统及控制方法在审
| 申请号： | 202011377104.6 | 申请日： | 2020-12-01 |
| 公开（公告）号： | CN112589543A | 公开（公告）日： | 2021-04-02 |
| 发明（设计）人： | 蹤雪梅;莫立东;何冰 | 申请（专利权）人： | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B51/00;B24B49/00;B24B49/12;B24B49/10;B24B41/06;B24B57/02;B24B41/00;G01D21/02 |
| 代理公司： | 南京纵横知识产权代理有限公司 32224 | 代理人： | 董建林 |
| 地址： | 221004 江苏省徐*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电解质等离子抛光设备控制系统，所述电解质等离子抛光设备包括抛光电源设备、自动化机械传输模块、加工槽、储液槽、过滤装置，控制系统包括人机交互模块、设备参数监控模块、PLC控制器、设备状态控制模块。人机交互模块、设备参数监控模块、PLC控制器、设备状态控制模块与电解质等离子抛光设备构成一整套电解质等离子抛光设备控制系统方案，对加工过程进行参数设定、过程监控和操作控制，解决了目前电解质等离子抛光技术存在的工件加工效率低、抛光电压不可控、溶液温度循环不及时、蒸汽排放不及时、设备加工稳定性和连续性不足等问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电解质 等离子 抛光 设备 控制系统 控制 方法 | ||
【主权项】：
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