[发明专利]一种便于调节的双工位直投式光刻机在审
申请号: | 202011386436.0 | 申请日: | 2020-12-01 |
公开(公告)号: | CN112558423A | 公开(公告)日: | 2021-03-26 |
发明(设计)人: | 周杰;张琪;符友银;李俊毅 | 申请(专利权)人: | 北京新毅东科技有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人: | 侯克邦 |
地址: | 100043 北京市石景*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种便于调节的双工位直投式光刻机,包括底座,底座的顶端固定开设有凹槽,凹槽内设置有工作台,且工作台的顶端设置有传送台;传送台由输送带、主动轮和从动轮构成,且主动轮与从动轮通过输送带传送连接;传送台的顶部设置有第一固定架和第二固定架,且第一固定架设置在第二固定架的一侧;第一固定架一侧的顶端设置有对位相机,第二固定架一侧的顶端设置有镜筒。该种便于调节的双工位直投式光刻机的底座内设置有液压缸,液压缸的伸缩端与工作台的底端固定连接,可通过液压缸实现工作台的升降,对工作台的高度进行调节,当需要对第一固定架和第二固定架上的对位相机和镜筒进行调节时可通过液压缸降低工作台的高度。 | ||
搜索关键词: | 一种 便于 调节 双工 位直投式 光刻 | ||
【主权项】:
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