[发明专利]一种通过激光制作对位标记的金属掩膜版在审
申请号: | 202011401779.X | 申请日: | 2020-12-02 |
公开(公告)号: | CN112725726A | 公开(公告)日: | 2021-04-30 |
发明(设计)人: | 钱超;杨柯 | 申请(专利权)人: | 常州高光半导体材料有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;B23K26/21;B23K26/362;B23K26/70 |
代理公司: | 南京行高知识产权代理有限公司 32404 | 代理人: | 肖念 |
地址: | 213300 江苏省常*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种通过激光制作对位标记的金属掩膜版,包括掩膜版主体,掩膜版主体通过张网的方式将四角的对位孔与图形区的位置拉到指定位置后,与金属掩膜框拼合形成金属掩膜版;支撑掩膜版主体,寻找图形位置并对掩膜版主体上的图形位置进行多次校验;对准掩膜版主体图形位置并平放并固定连接在框架台体上;所述掩膜版主体利用激光制作出多个对位标记,本发明制作的掩膜版对位孔的真圆度较好,能控制在99%左右,而且不受传统蚀刻液的残留影响,激光打标后的平均对位次数可以小于一次,同时对Frame的加工难度减小,所以Mask的加工难度减小,达到增加Mask良品率的效果,降低了生产成本,可有效提升产能。 | ||
搜索关键词: | 一种 通过 激光 制作 对位 标记 金属 掩膜版 | ||
【主权项】:
暂无信息
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