[发明专利]一种SE结构图案及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202011404688.1 申请日: 2020-12-02
公开(公告)号: CN112531041A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 张逸凡;何悦;金杭;朱太英;李文龙;方超炎 申请(专利权)人: 横店集团东磁股份有限公司
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/0352;H01L31/18
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 胡彬
地址: 322118 浙*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及单晶电池技术领域,公开了一种SE结构图案及其制作方法,其中SE结构图案包括:Mark点图组,Mark点图组设置于电池片的成形表面上,Mark点图组为十字型图组,Mark点图组包括相互交叉的横线和纵线,横线沿成形表面的横向设置,纵线沿成形表面的纵向设置;副栅激光线图组,副栅激光线图组设置于成形表面上,副栅激光线图组包括上部分、中间部分和下部分,上部分、中间部分和下部分均包括若干条第一刻线,第一刻线沿成形表面的横向分布;主栅激光线图组,主栅激光线图组设置于成形表面上,主栅激光线图组包括若干组第二刻线,每组第二刻线沿成形表面的纵向分布。通过上述结构,该SE结构图案能够提高电池片的电子发光检测合格率和电性能。
搜索关键词: 一种 se 结构 图案 及其 制作方法
【主权项】:
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