[发明专利]半导体装置在审
申请号: | 202011409949.9 | 申请日: | 2020-12-04 |
公开(公告)号: | CN113161316A | 公开(公告)日: | 2021-07-23 |
发明(设计)人: | 丸山一哉;佐野努;西城淳一 | 申请(专利权)人: | 铠侠股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/49 | 分类号: | H01L23/49;H01L21/60;H01L25/18 |
代理公司: | 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 | 代理人: | 张世俊 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 实施方式的半导体装置具备第1电极、第2电极、以及在所述第1电极与所述第2电极之间延伸的导线。所述导线包含:第1导电体,与所述第1电极及所述第2电极相接;以及第2导电体,以不与所述第1电极及所述第2电极相接的方式设置在所述第1导电体内。 | ||
搜索关键词: | 半导体 装置 | ||
【主权项】:
暂无信息
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