[发明专利]一种CIS产品的微透镜形成方法

摘要

本申请公开了一种CIS产品的微透镜形成方法，涉及半导体制造领域。该方法包括提供一制作CIS产品的衬底，所述衬底上形成有金属层间介质层，所述金属层间介质层中设置有金属连线；在所述金属层间介质层的上方形成第一层微透镜材料层；通过光刻工艺在所述第一层微透镜材料层上方定义微透镜图案；根据所述微透镜图案刻蚀所述第一层微透镜材料层，形成微透镜前置结构；沉积第二层微透镜材料层，形成微透镜，所述微透镜位于所述CIS产品的像素区上方，微透镜材料为含碳氧化硅；解决了目前利用二氧化硅制作的微透镜的透光性一般的问题；达到了提高CIS微透镜的透光性，提升CIS产品性能的效果。