[发明专利]半导体膜平面度计算方法、系统及半导体机台调整方法有效
| 申请号： | 202011435321.6 | 申请日： | 2020-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN112504213B | 公开（公告）日： | 2021-12-17 |
| 发明（设计）人： | 黄建强;郑先意 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | G01B21/30 | 分类号： | G01B21/30;H01L21/67 |
| 代理公司： | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人： | 熊永强 |
| 地址： | 430074 湖北省武汉*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明提供一种半导体膜平面度计算方法和系统及半导体机台调整方法。所述半导体膜平面度的获取方法包括，获取半导体膜表面的多个测量点的位置坐标，对多个所述测量点的位置坐标进行拟合，以得到所述半导体膜表面的拟合平面，获取所述半导体膜表面多个待测测量点到所述拟合平面的垂直距离，对多个所述垂直距离处理以得到所述半导体膜表面待测测量点的平面度。通过本发明所提供的半导体膜平面度的计算方法获取半导体膜的平面度工序简单，不需要对各个点的膜厚都进行测量，起到节约人力和物力，提高效率的作用。 | ||
| 搜索关键词： | 半导体 平面 计算方法 系统 机台 调整 方法 | ||
【主权项】：
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