[发明专利]模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法在审
| 申请号： | 202011441899.2 | 申请日： | 2020-12-11 |
| 公开（公告）号： | CN113189024A | 公开（公告）日： | 2021-07-30 |
| 发明（设计）人： | 高志婷;郭丽潇;崔玉杰;邓少刚;梁栋;王永仙;梁宇;张宇航;张文俊;高亚华;武明亮;刘东 | 申请（专利权）人： | 中国辐射防护研究院 |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31;G01N1/28;G01N1/34;G01N21/01;G01N23/223 |
| 代理公司： | 北京天悦专利代理事务所(普通合伙) 11311 | 代理人： | 任晓航;祝倩 |
| 地址： | 030006 山*** | 国省代码： | 山西;14 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种模拟AP1000水化学条件制备的氧化物的去污效果的评价方法，所述评价方法包括如下步骤：模拟AP1000水化学条件在样片表面制备沉积氧化物，使用化学去污剂对样片进行去污清洗；对去污清洗前后的样片进行表面形貌的宏观评价和微观评价；对去污清洗前后的样片进行表面元素种类和含量半定量评价、表面离子价态评价；对去污清洗后的样片进行腐蚀深度分析；对样片表面的沉积氧化物进行去污溶解率分析。利用本发明的方法能够定量的了解实际的化学去污技术对AP1000产生的腐蚀氧化物的去污效果，对化学去污技术进行客观评价。 | ||
| 搜索关键词： | 模拟 ap1000 水化学 条件 制备 氧化物 去污 效果 评价 方法 | ||
【主权项】：
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