[发明专利]半导体量测设备及清洁方法在审

专利信息
申请号: 202011453148.2 申请日: 2020-12-11
公开(公告)号: CN114623862A 公开(公告)日: 2022-06-14
发明(设计)人: 金炳喆;卢一泓;李琳;胡艳鹏;张月;王佳 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所;真芯(北京)半导体有限责任公司
主分类号: G01D21/02 分类号: G01D21/02;B08B6/00
代理公司: 北京辰权知识产权代理有限公司 11619 代理人: 李晶
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请属于半导体量测技术领域,具体涉及一种半导体量测设备及其清洁方法,所述半导体量测设备包括:晶圆装载端口,所述晶圆装载端口用于存放晶圆;晶圆量测装置,所述晶圆量测装置用于测量所述晶圆的参数;EFEM模块,所述晶圆转送装置用于将晶圆在所述量测设备各个模块之间传送;清洁模块,所述清洁模块用于在所述半导体量测设备运行时清洁所述晶圆装载端口、EFEM模块和晶圆量测装置。根据本申请的半导体量测设备,通过在半导体量测设备中设置清洁模块,使半导体量测设备在不停机的状态下,即可对晶圆装载端口、EFEM模块和晶圆量测装置等进行周期性清洁,从而提高半导体量测设备的生产效率。
搜索关键词: 半导体 设备 清洁 方法
【主权项】:
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