[发明专利]一种用于晶元清洗的托架在审
申请号: | 202011458729.5 | 申请日: | 2020-12-11 |
公开(公告)号: | CN112786501A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | 唐亚松;叶沐勇;叶晓玲 | 申请(专利权)人: | 苏州普斯恩精密机械有限公司 |
主分类号: | H01L21/673 | 分类号: | H01L21/673;H01L21/67;B08B11/02 |
代理公司: | 北京久维律师事务所 11582 | 代理人: | 邢江峰 |
地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种用于晶元清洗的托架,包括固定底脚,所述固定底脚的上端外表面设置有一号热胀冷缩拼接柱,所述一号热胀冷缩拼接柱的前端外表面设置有peek焊接板,所述peek焊接板的下端设置有便捷固定插板,所述peek焊接板的后端外表面设置有二号热胀冷缩拼接柱,所述一号热胀冷缩拼接柱的一侧设置有固定柱体,所述固定柱体的上端设置有联动柱,所述一号热胀冷缩拼接柱包括柱芯、一号插入块、防水外层、一号固定金属块、二号插入块与二号固定金属块,所述一号插入块位于柱芯的一端外表面。本发明所述的一种用于晶元清洗的托架,结构简单,使用方便,并且采用新式的安装方式,带来更好的使用前景。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 清洗 托架 | ||
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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