[发明专利]一种硅片处理设备有效
| 申请号： | 202011478667.4 | 申请日： | 2020-12-15 |
| 公开（公告）号： | CN112609243B | 公开（公告）日： | 2022-04-19 |
| 发明（设计）人： | 刘晓鹏 | 申请（专利权）人： | 西安奕斯伟硅片技术有限公司;西安奕斯伟材料技术有限公司 |
| 主分类号： | C30B33/10 | 分类号： | C30B33/10;C30B29/06 |
| 代理公司： | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人： | 黄灿;顾春天 |
| 地址： | 710065 陕西省西安市*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提供一种硅片处理设备。硅片处理设备包括反应槽、电磁控制器和搅拌加热转子；电磁控制器设置于反应槽外侧，搅拌加热转子设置于反应槽内，搅拌加热转子的位置对应电磁控制器设置，以通过电磁控制器控制搅拌加热转子；搅拌加热转子包括搅拌部和加热部，搅拌部包括永磁体，加热部包括金属材料。本发明通过设置电磁控制器和搅拌加热转子，可以通过电磁控制器与搅拌加热转子的搅拌部相配合，实现对于反应槽中反应液的搅拌，通过电磁控制器与搅拌加热转子的加热部相配合，实现对于反应槽中反应液的加热，有助于提高对于反应槽中反应液加热的均匀程度，通过一组设备同时实现加热和搅拌两个功能，也有助于降低设备的成本。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 硅片 处理 设备 | ||
【主权项】：
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