[发明专利]一种真空蒸镀用基片温度控制装置在审

专利信息
申请号: 202011479788.0 申请日: 2020-12-15
公开(公告)号: CN112626482A 公开(公告)日: 2021-04-09
发明(设计)人: 熊继光;赵志国;秦校军;肖平;赵东明;邬俊波;董超;刘家梁;王百月;冯笑丹;梁思超;王森;张杰 申请(专利权)人: 华能新能源股份有限公司;中国华能集团清洁能源技术研究院有限公司
主分类号: C23C14/54 分类号: C23C14/54;C23C14/24;C23C14/50;H01L51/48
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 李鹏威
地址: 100036 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种真空蒸镀用基片温度控制装置,包括水冷基板以及开设在水冷基板上的进水口和出水口,还包括辅助降温装置,所述辅助降温装置置于水冷基板与电池基片之间,所述辅助降温装置通过连接管与辅助冷却设备相连,所述降温系统包括密闭设置的气囊和填充在气囊内部的可流动散热介质,所述降温系统与水冷基板的底面和电池基片贴合。在原有水冷降温组件和电池基片之间增加辅助降温装置,辅助降温装置可以同时和水冷降温组件及电池基片形成紧密面接触,提高降温效率,同时,辅助降温装置与蒸镀舱室外的辅助冷却设备相连,在水冷降温加上辅助降温装置达不到降温需求时,通过开启辅助冷却设备,对辅助降温装置进行降温,这种双重制冷的方法可以有效提高降温效率,改善降温效果,避免电池膜层过热受损。
搜索关键词: 一种 真空 蒸镀用基片 温度 控制 装置
【主权项】:
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