[发明专利]一种对压力刺激具有特异性响应的含N化合物、制备方法与应用在审
| 申请号： | 202011481752.6 | 申请日： | 2020-12-14 |
| 公开（公告）号： | CN112645878A | 公开（公告）日： | 2021-04-13 |
| 发明（设计）人： | 于澍燕;王志锋;童金 | 申请（专利权）人： | 北京工业大学 |
| 主分类号： | C07D231/12 | 分类号： | C07D231/12;C09K11/06 |
| 代理公司： | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人： | 张立改 |
| 地址： | 100124 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
一种对压力刺激具有特异性响应的含N化合物、制备方法与应用，涉及化合物领域。具有如式(I‑IV)所示结构。本发明利用一步Suzuki偶联反应即可制备得到蒽基吡唑类化合物，此类化合物可应用于配位化学、电化学、光化学、生物化学等领域。本发明的化合物具有研磨发光性质，有望开发智能传感器件。本发明的制备方法简单，一步合成即可得到产物，生产成本低，产率均能达到75％以上，适合大量工业化生产。 |
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| 搜索关键词： | 一种 压力 刺激 具有 特异性 响应 化合物 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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