[发明专利]图像传感器的版图结构在审

专利信息
申请号: 202011486085.0 申请日: 2020-12-16
公开(公告)号: CN112614861A 公开(公告)日: 2021-04-06
发明(设计)人: 郑剑锋;王明;梅翠玉 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L27/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种图像传感器的版图结构,包括:阱区,呈十字形以划分出4个子区域;若干像素区域,每个所述像素区域包括4个沿所述像素区域的中心旋转对称的子像素区域,4个所述子像素区域分别位于一个所述子区域内,每个所述子像素区域呈凹字形且凹陷处为浅沟槽结构区域,所述浅沟槽结构区域将所述子像素区域分隔为光电二极管区域及晶体管区域,所述晶体管区域位于所述光电二极管区域的外围。本发明解决了现有技术中图像传感器的像素区域中的暗电流的问题。
搜索关键词: 图像传感器 版图 结构
【主权项】:
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