[发明专利]一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线有效
申请号: | 202011493385.1 | 申请日: | 2020-12-17 |
公开(公告)号: | CN112647052B | 公开(公告)日: | 2022-11-11 |
发明(设计)人: | 倪植森;张少波;陈诚;杨金发;彭程;许波;钟汝梅;李俊琛;邵帅;罗丹 | 申请(专利权)人: | 凯盛科技股份有限公司蚌埠华益分公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 昆明合众智信知识产权事务所 53113 | 代理人: | 周勇 |
地址: | 233000 安*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明提供一种进口过渡真空腔体和磁控溅射镀膜生产线,包括:底座,所述底座与壳体焊接固定,所述壳体一侧开设有若干玻璃插片架通道,所述玻璃插片架通道内螺栓固定安装有玻璃插片架,所述进架通道和出架通道分别与镀膜舱和转运舱开设的相应通道相连通;转运架,所述转运架活动安装在底座上,插片机械手,所述插片机械手用于夹取玻璃并将玻璃插片架上的玻璃转运至玻璃插架上,本发明通过在过渡真空腔体内设置插片装置,使过渡真空腔体内的真空度保持与镀膜腔体相近或一致的状态,大大减少了过渡真空腔体的过渡时间,有效提高了镀膜效率,克服了人工无法在低真空度的条件下工作的障碍,减轻了人工负担。 | ||
搜索关键词: | 一种 进口 过渡 空腔 磁控溅射 镀膜 生产线 | ||
【主权项】:
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