[发明专利]YAG晶片的抛光方法有效
| 申请号： | 202011494243.7 | 申请日： | 2020-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN112621557B | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 董志刚 | 申请（专利权）人： | 江苏集萃精凯高端装备技术有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B37/10;B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 苏州威世朋知识产权代理事务所(普通合伙) 32235 | 代理人： | 杨林洁 |
| 地址： | 215300 江苏省苏州*** | 国省代码： | 江苏;32 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种YAG晶片的抛光方法，包括如下步骤：S1：提供YAG晶片，设定一面为A面，另一面为B面，在抛光盘上均匀粘贴聚氨酯抛光垫，对YAG晶片A面进行抛光，抛光时滴加第一抛光液；S2：对YAG晶片B面进行抛光，抛光时滴加第一抛光液；S3：在抛光盘上均匀粘无纺布抛光垫，对YAG晶片A面进行抛光，抛光时滴加第二抛光液；S4：对YAG晶片B面进行抛光，抛光时滴加第二抛光液；S5：将YAG晶片进行超声清洗，清洗液为去离子水。本发明通过化学机械抛光利用化学与机械相结合的方式，通过抛光液的腐蚀作用使晶片表面钝化，生成软质层，然后通过磨粒的研磨作用使软质层去除，化学机械抛光加工效率高，能够获得平坦低损伤、无划痕的加工表面。 | ||
| 搜索关键词： | yag 晶片 抛光 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏集萃精凯高端装备技术有限公司，未经江苏集萃精凯高端装备技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202011494243.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
