[发明专利]一种光刻套刻标记及其制备方法有效
| 申请号： | 202011500287.6 | 申请日： | 2020-12-18 |
| 公开（公告）号： | CN112563246B | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 李国强 | 申请（专利权）人： | 河源市众拓光电科技有限公司 |
| 主分类号： | H01L23/544 | 分类号： | H01L23/544 |
| 代理公司： | 广州容大知识产权代理事务所(普通合伙) 44326 | 代理人： | 刘新年 |
| 地址： | 517000 广东省河源*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及半导体技术领域，具体涉及一种光刻套刻标记及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：步骤S1：制作标记点图形，将标记点图形转移至芯片上，露出外延层；步骤S2：刻蚀外延层；步骤S3：蒸镀金属标记点，金属结构为CrAlTiPtAu；CrAlTiPtAu金属结构是从下往上依次为金属Cr层、Al层、Ti层、Pt层、Au层；步骤S4：剥离去胶。本发明提供的方法制备的光刻套刻标记抗磨损能力强、分辨率高、不易被腐蚀，受离子的物理轰击和化学溶液腐蚀的影响极其轻微；同时本发明的金属标记点可以反射光线，使金属标记点更加清楚，提高了对位精准度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光刻 标记 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
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