[发明专利]一种电子深度保护剂涂覆方法及其应用在审

专利信息
申请号: 202011538565.7 申请日: 2020-12-23
公开(公告)号: CN112700926A 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 李长宏;夏春燕 申请(专利权)人: 重庆新原港科技发展有限公司
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00
代理公司: 北京久维律师事务所 11582 代理人: 邢江峰
地址: 400000 重庆市沙*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种电子深度保护剂涂覆方法及其应用,包括以下步骤:首先采用清洗剂配合使用相关设备对导体进行清洁处理;将清洁后的导体进行干燥处理;将电子深度保护剂进行均匀加热处理;再将导体置于电子深度保护剂中浸涂、干燥,即可,本发明通过将电子深度保护剂涂覆在导体的表面,通过电子深度保护剂分子基团的电子云与导体表面原子形成化学键,从而当有外在电场作用时电子云便产生离域作用,可显著提高导体元件表面导电性,进而有效降低趋肤效应,有利于实际的使用。
搜索关键词: 一种 电子 深度 保护 剂涂覆 方法 及其 应用
【主权项】:
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