[发明专利]一种电子深度保护剂涂覆方法及其应用在审
申请号: | 202011538565.7 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112700926A | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 李长宏;夏春燕 | 申请(专利权)人: | 重庆新原港科技发展有限公司 |
主分类号: | H01B13/00 | 分类号: | H01B13/00 |
代理公司: | 北京久维律师事务所 11582 | 代理人: | 邢江峰 |
地址: | 400000 重庆市沙*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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摘要: | 本发明公开了一种电子深度保护剂涂覆方法及其应用,包括以下步骤:首先采用清洗剂配合使用相关设备对导体进行清洁处理;将清洁后的导体进行干燥处理;将电子深度保护剂进行均匀加热处理;再将导体置于电子深度保护剂中浸涂、干燥,即可,本发明通过将电子深度保护剂涂覆在导体的表面,通过电子深度保护剂分子基团的电子云与导体表面原子形成化学键,从而当有外在电场作用时电子云便产生离域作用,可显著提高导体元件表面导电性,进而有效降低趋肤效应,有利于实际的使用。 | ||
搜索关键词: | 一种 电子 深度 保护 剂涂覆 方法 及其 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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