[发明专利]一种掩膜版倾斜钻孔支架有效
申请号: | 202011541259.9 | 申请日: | 2020-12-23 |
公开(公告)号: | CN112571097B | 公开(公告)日: | 2022-02-22 |
发明(设计)人: | 钱超;杨波 | 申请(专利权)人: | 江苏高光半导体材料有限公司 |
主分类号: | B23Q3/00 | 分类号: | B23Q3/00;B23B41/00;B23Q11/00 |
代理公司: | 南京行高知识产权代理有限公司 32404 | 代理人: | 肖念 |
地址: | 212400 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明属于掩膜版技术领域,尤其是涉及一种掩膜版倾斜钻孔支架,包括底板和多根立柱及多根斜柱,立柱与斜柱一一匹配,多根立柱与底板垂直固定连接,多根斜柱的两端分别与底板和立柱固定连接,斜柱的倾斜角度为度,多根斜柱上设有同一个卡紧机构,底板上还设有用于配合卡紧机构的吸附机构,底板上开设有多个上下贯通的螺纹孔。优点在于:本发明可较为稳定的在掩膜版上开钻出多个45度角的钻孔,同时结构稳定,掩膜版在钻孔时不易发生移动,提高了掩膜版的钻孔的效果和质量。 | ||
搜索关键词: | 一种 掩膜版 倾斜 钻孔 支架 | ||
【主权项】:
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