[发明专利]静电卡盘和半导体工艺设备在审
| 申请号： | 202011547607.3 | 申请日： | 2020-12-24 |
| 公开（公告）号： | CN112670142A | 公开（公告）日： | 2021-04-16 |
| 发明（设计）人： | 陈兆滨;光娟亮 | 申请（专利权）人： | 北京北方华创微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/20 | 分类号： | H01J37/20;H01J37/305;H01J37/32;H01L21/683;H01L21/67 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 施敬勃 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种静电卡盘和半导体工艺设备，静电卡盘包括支撑件、限位件和电极组件，所述支撑件包括基体和支撑台，所述支撑台凸出设置于所述基体，所述支撑台背离所述基体的表面包括用于支撑待加工工件的承载面；所述限位件具有贯穿孔，所述限位件支撑于所述基体，且所述支撑台伸入所述贯穿孔之内，所述限位件背离所述基体的表面高于所述承载面，所述贯穿孔的内环壁和所述承载面用于共同定位所述待加工工件；所述电极组件设置于所述支撑件内，所述电极组件用于在与电源连接的情况下，向所述限位件和支撑于所述支撑台上的所述待加工工件提供静电吸附作用力。上述静电卡盘可以解决目前晶圆边缘的刻蚀效率较低，晶圆的整体均匀性较差的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 静电 卡盘 半导体 工艺设备 | ||
【主权项】：
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