[发明专利]有通道的举升销在审
申请号: | 202011548209.3 | 申请日: | 2020-12-24 |
公开(公告)号: | CN113073310A | 公开(公告)日: | 2021-07-06 |
发明(设计)人: | R.辛古;D.南德瓦纳;T.R.邓恩;S.斯瓦米纳坦;B.佐普;C.L.怀特 | 申请(专利权)人: | ASMIP私人控股有限公司 |
主分类号: | C23C16/458 | 分类号: | C23C16/458;C23C14/50 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 焦玉恒 |
地址: | 荷兰阿*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种反应器系统可包括:反应室,其由室侧壁封闭;以及基座,其在所述反应室中设置在包括于所述反应室中的反应空间与下室空间之间。所述基座可包括销孔,所述销孔被设置成穿过所述基座,使得所述销孔与所述反应空间和所述下室空间流体连通,并且使得所述反应空间与所述下室空间流体连通。举升销可以设置在所述销孔中。所述举升销可包括销主体,所述销主体包括由销通道表面限定的销通道,所述销通道设置在所述销主体中,使得当所述举升销设置在所述销孔中时,所述反应空间与所述下室空间流体连通。 | ||
搜索关键词: | 通道 举升销 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的